Maligayang pagdating sa aming mga website!

CuIn Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Copper Indium

Maikling Paglalarawan:

Kategorya

Alloy Sputtering Target

Formula ng Kemikal

CuIn

Komposisyon

Copper Indium

Kadalisayan

99.9%,99.95%,99.99%

Hugis

Mga Plate,Mga Target ng Column,arc cathodes,Custom-made

Proseso ng Produksyon

Pagtunaw ng vacuum

Magagamit na Sukat

L≤2000mm,W≤200mm


Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Copper Indium alloy sputtering target ay conventionally gawa sa pamamagitan ng vacuum induction melting.Ang Indium ay maaaring bumuo ng iba't ibang uri ng indium alloy na may halos lahat ng elemento sa periodic table.Ang Copper Indium alloy ay isang binary na haluang metal, kadalasang ginagamit ito bilang mababang haluang metal na natutunaw at nagpapatigas na haluang metal.

Ang Copper Indium alloy sputtering target ay may kapansin-pansing kalamangan na maaari itong gumawa ng PVD coatings na may mahusay na electric conductivity at pinong laki ng butil.Makakatulong ito sa pagbuo ng mga layer ng CIGS, na may mga komposisyon ng tanso (Cu), gallium (Ga), indium (In) at selenium (Se) at pinangalanan ayon sa kanilang mga bahagi.Ang CIGS ay may mataas na photovoltaic conversion na kahusayan, kaya ito ay madaling ibagay para gamitin bilang absorbing layer para sa mga solar cell.

Ang Rich Special Materials ay dalubhasa sa Paggawa ng Sputtering Target at maaaring gumawa ng Copper Indium Sputtering Materials ayon sa mga detalye ng Customer.Para sa karagdagang impormasyon, mangyaring makipag-ugnayan sa amin.


  • Nakaraan:
  • Susunod: