Mga pagkakaiba sa pagitan ng teknolohiya ng sputtering at target ng sputtering at ang kanilang mga aplikasyon

Alam nating lahat na ang sputtering ay isa sa mga pangunahing teknolohiya para sa paghahanda ng mga materyales sa pelikula.Ginagamit nito ang mga ion na ginawa ng pinagmumulan ng ion upang mapabilis ang pagsasama-sama sa vacuum upang makabuo ng isang high-speed na sinag ng ion, bombahin ang solidong ibabaw, at ang mga ion ay nagpapalit ng kinetic energy sa mga atomo sa solidong ibabaw, upang ang mga atomo sa solido ibabaw iwanan ang solid at magdeposito sa ibabaw ng substrate.Ang bombarded solid ay ang hilaw na materyal para sa pagdedeposito ng pelikula sa pamamagitan ng sputtering, na tinatawag na sputtering target.

Ang iba't ibang uri ng sputtered film materials ay malawakang ginagamit sa semiconductor integrated circuits, recording media, planar display, tool at die surface coating at iba pa.

Ang mga target na sputtering ay pangunahing ginagamit sa mga industriya ng elektroniko at impormasyon, tulad ng mga integrated circuit, imbakan ng impormasyon, mga liquid crystal display, laser memory, electronic control equipment, atbp;Maaari rin itong gamitin sa larangan ng glass coating;Maaari rin itong gamitin sa mga materyales na lumalaban sa pagsusuot, mataas na temperatura na lumalaban sa kaagnasan, mga produktong pangdekorasyon na may mataas na dulo at iba pang mga industriya.

Maraming uri ng sputtering target, at may iba't ibang paraan para sa pag-uuri ng mga target:

Ayon sa komposisyon, maaari itong nahahati sa target na metal, target ng haluang metal at target ng ceramic compound.

Ayon sa hugis, maaari itong nahahati sa mahabang target, square target at round target.

Maaari itong nahahati sa microelectronic target, magnetic recording target, optical disk target, precious metal target, film resistance target, conductive film target, surface modification target, mask target, decorative layer target, electrode target at iba pang target ayon sa application field.

Ayon sa iba't ibang mga aplikasyon, maaari itong nahahati sa mga target na ceramic na may kaugnayan sa semiconductor, pagtatala ng mga medium na ceramic na target, pagpapakita ng mga ceramic na target, superconducting ceramic na mga target at higanteng magnetoresistance ceramic na mga target.