Paano pagbutihin ang rate ng paggamit ng mga materyal na target ng molibdenum

Ang mga sputtered molybdenum target ay malawakang ginagamit sa industriya ng electronics, solar cell, glass coating, at iba pang larangan dahil sa kanilang likas na mga pakinabang.Sa mabilis na pag-unlad ng modernong teknolohiya sa miniaturization, integration, digitization, at intelligence, ang paggamit ng mga target na molibdenum ay patuloy na tataas, at ang mga kinakailangan sa kalidad para sa mga ito ay magiging mas mataas din.Kaya kailangan nating maghanap ng mga paraan upang mapabuti ang rate ng paggamit ng mga target na molibdenum.Ngayon, ang editor ng RSM ay magpapakilala ng ilang mga paraan upang mapabuti ang rate ng paggamit ng mga sputtering molybdenum na target para sa lahat.

1. Magdagdag ng electromagnetic coil sa reverse side

Upang mapabuti ang rate ng paggamit ng sputtered molybdenum target, maaaring magdagdag ng electromagnetic coil sa reverse side ng planar Magnetron sputtering molibdenum target, at ang magnetic field sa ibabaw ng molibdenum target ay maaaring tumaas sa pamamagitan ng pagtaas ng kasalukuyang ng ang electromagnetic coil, upang mapabuti ang rate ng paggamit ng target na molibdenum.

2. Piliin ang tubular rotating target na materyal

Kung ikukumpara sa mga flat target, ang pagpili ng isang tubular rotating target structure ay nagtatampok sa mga makabuluhang pakinabang nito.Sa pangkalahatan, ang rate ng paggamit ng mga flat target ay 30% hanggang 50% lamang, habang ang utilization rate ng tubular rotating target ay maaaring umabot ng higit sa 80%.Bukod dito, kapag ginagamit ang umiikot na guwang na tubo na Magnetron sputtering target, dahil ang target ay maaaring paikutin sa paligid ng fixed bar magnet assembly sa lahat ng oras, walang muling pagdedeposisyon sa ibabaw nito, kaya ang buhay ng umiikot na target ay karaniwang higit sa 5 beses na mas mahaba. kaysa sa target ng eroplano.

3. Palitan ng bagong sputtering equipment

Ang susi sa pagpapabuti ng rate ng paggamit ng mga target na materyales ay upang makumpleto ang pagpapalit ng sputtering equipment.Sa panahon ng proseso ng sputtering ng molybdenum sputtering target na materyal, humigit-kumulang 1/6 ng sputtering atoms ang magdedeposito sa vacuum chamber wall o bracket pagkatapos matamaan ng hydrogen ions, na nagpapataas ng gastos sa paglilinis ng vacuum equipment at downtime.Kaya ang pagpapalit ng bagong sputtering equipment ay maaari ding makatulong na mapabuti ang utilization rate ng sputtering molybdenum target.