Panimula sa pag-andar at paggamit ng target

Tungkol sa target na produkto, ngayon ang merkado ng aplikasyon ay mas at mas malawak, ngunit mayroon pa ring ilang mga gumagamit ay hindi masyadong nauunawaan ang tungkol sa paggamit ng target, hayaan ang mga eksperto mula sa RSM technology Department na gumawa ng isang detalyadong pagpapakilala tungkol dito,

　　1. Microelectronics

Sa lahat ng industriya ng aplikasyon, ang industriya ng semiconductor ay may pinakamaraming hinihingi na mga kinakailangan para sa target na kalidad ng pelikulang sputtering.Ang mga silicone wafer na 12 pulgada (300 epistaxis) ay ginawa na ngayon.Ang lapad ng interconnect ay bumababa.Ang mga tagagawa ng silicone wafer ay nangangailangan ng malaking sukat, mataas na kadalisayan, mababang segregation at pinong butil ng target, na nangangailangan ng mas mahusay na microstructure ng manufactured target.

　　2, display

Malaki ang epekto ng flat panel display (FPD) sa cathode-ray tube (CRT) -based computer monitor at television market sa mga nakaraang taon, at magtutulak din sa teknolohiya at market demand para sa ITO target na materyales.Mayroong dalawang uri ng mga target ng iTO.Ang isa ay ang paggamit ng nanometer na estado ng indium oxide at tin oxide powder pagkatapos ng sintering, ang isa ay ang paggamit ng indium tin alloy na target.

　　3. Imbakan

Sa mga tuntunin ng teknolohiya ng imbakan, ang pagbuo ng mga hard disk na may mataas na densidad at malalaking kapasidad ay nangangailangan ng malaking bilang ng mga higanteng materyales sa pag-aatubili ng pelikula.Ang CoF~Cu multilayer composite film ay isang malawakang ginagamit na istraktura ng higanteng reluctance film.Ang TbFeCo alloy na target na materyal na kailangan para sa magnetic disc ay nasa karagdagang pag-unlad.Ang magnetic disc na ginawa gamit ang TbFeCo ay may mga katangian ng malaking kapasidad ng imbakan, mahabang buhay ng serbisyo at paulit-ulit na di-contact na pagbura.

　　Pag-unlad ng target na materyal:

Ang iba't ibang uri ng sputtering thin film materials ay malawakang ginagamit sa semiconductor integrated circuits (VLSI), optical disks, planar display at surface coatings ng workpiece.Mula noong 1990s, ang sabay-sabay na pag-unlad ng sputtering target na materyal at sputtering na teknolohiya ay lubos na natugunan ang mga pangangailangan ng pagbuo ng iba't ibang mga bagong elektronikong sangkap.