Nagtanong ang ilang mga customer tungkol sa mga target ng pag-sputter ng silicon.Ngayon, susuriin ng mga kasamahan mula sa RSM Technology Department ang mga target sa pag-sputtering ng silicon para sa iyo.
Ang target na pag-sputter ng silicone ay ginawa sa pamamagitan ng pag-sputter ng metal mula sa silicon ingot.Ang target ay maaaring gawin sa pamamagitan ng iba't ibang mga proseso at pamamaraan, kabilang ang electroplating, sputtering at vapor deposition.Ang mga ginustong embodiment ay karagdagang nagbibigay ng karagdagang mga proseso ng paglilinis at pag-ukit upang makamit ang ninanais na mga kondisyon sa ibabaw.Ang ginawang target ay lubos na mapanimdim, na may gaspang na mas mababa sa 500 angstrom at medyo mabilis na bilis ng pagsunog.Ang pelikulang inihanda ng target na silikon ay may mababang bilang ng butil.
Ginagamit ang Silicon sputtering target upang magdeposito ng mga manipis na pelikula sa mga materyales na batay sa silikon.Karaniwang ginagamit ang mga ito sa display, semiconductor, optical, optical na komunikasyon at mga application ng glass coating.Angkop din ang mga ito para sa pag-ukit ng mga high-tech na bahagi.Ang mga N-type na silicon sputtering target ay maaaring gamitin para sa iba't ibang layunin.Naaangkop ito sa maraming larangan, kabilang ang electronics, solar cells, semiconductors at display.
Ang silicon sputtering target ay isang sputtering accessory na ginagamit para sa pagdedeposito ng mga materyales sa ibabaw.Karaniwan, binubuo ito ng mga atomo ng silikon.Ang proseso ng sputtering ay nangangailangan ng tumpak na dami ng materyal, na maaaring isang malaking hamon.Ang paggamit ng perpektong kagamitan sa sputtering ay ang tanging paraan upang makagawa ng mga sangkap na batay sa silikon.Ito ay nagkakahalaga ng noting na ang silicon sputtering target ay hindi ginagamit sa proseso ng sputtering.
Oras ng post: Okt-24-2022