Alam nating lahat na maraming mga detalye ng sputtering target,na may awhanay ng aplikasyon.Tiba rin ang target niyang mga barayti na karaniwang ginagamit sa iba't ibang industriya, ngayon tayo ay halika kasama BeijingRichmat magkasama upang malaman ang tungkol sa sputtering target na pag-uuri ng industriya.
一,Kahulugan ng sputtering target na materyal
Ang sputtering ay isa sa mga pangunahing teknolohiya para sa paghahanda ng mga materyales sa manipis na pelikula.Ginagamit nito ang mga ion na nabuo ng pinagmumulan ng ion upang bumuo ng ion beam na may mataas na bilis ng enerhiya sa pamamagitan ng pinabilis na pagsasama-sama sa vacuum. Ang binomba na solidong ibabaw, mga ion at solidong ibabaw na mga atomo ay may kinetic energy exchange, upang ang mga atomo sa solidong ibabaw ay umalis sa solid at magdeposito sa ibabaw ng substrate, ang bombarded solid ay ang hilaw na materyal para sa paghahanda ng sputtering idineposito film, na kilala bilang sputtering target.
二、Pag-uuri sa larangan ng aplikasyon ng mga sputtering target na materyales
1、Target ng semiconductor
(1)Karaniwang ginagamit na materyal:Kasama sa mga karaniwang target sa larangang ito ang tantalum, tanso, titanium, aluminyo, ginto, nikel at iba pang mga metal na may mataas na punto ng pagkatunaw.
(2)Paggamit：Karaniwang ginagamit sa mahalagang orihinal na data ng integrated circuit
(3)Mga kinakailangan sa pag-andar：Ang mga teknikal na kinakailangan sa kadalisayan, laki, pagsasama ay mataas.
2,Target na materyal para sa planar display
(1)Karaniwang ginagamit na materyal：Kasama sa mga target na karaniwang ginagamit sa larangang ito ang aluminum/copper/molybdenum/nickel/niobium/silicon/chromium, atbp.
(2)Paggamit：Ang ganitong uri ng target na materyal ay pangunahing ginagamit sa iba't ibang uri ng malaking lugar na pelikula ng TV at notebook.
(3)Mga kinakailangan sa pag-andar：Mataas na kinakailangan sa kadalisayan, malaking lugar, pagkakapareho at iba pa.
3、Mga target para sa mga solar cell
(1)Karaniwang ginagamit na materyal：Ang mga target na aluminyo/tanso/Molibdenum/chromium/ITO/Ta ay karaniwang ginagamit sa mga solar cell.
(2)Paggamit：Pangunahing ginagamit sa "window layer", barrier layer, electrode at conductive film at iba pang okasyon.
(3)Mga kinakailangan sa pag-andar：Kinakailangan ng mataas na kasanayan, malawak na hanay ng paggamit.
4、Target na materyal para sa pag-iimbak ng impormasyon
(1)Karaniwang ginagamit na materyal：Imbakan ng impormasyon na karaniwang ginagamit na mga materyal na target ng cobalt/nickel/ferroalloy/chromium/tellurium/selenium.
(2)Paggamit：Ang target na materyal dito ay pangunahing ginagamit para sa ulo, gitnang layer at ilalim na layer ng cd-rom at CD.
(3) Mga kinakailangan sa pagganap：Kinakailangan ang mataas na density ng imbakan at mataas na bilis ng paghahatid.
5、Target na materyal para sa pagbabago ng tool
(1)Karaniwang ginagamit na materyal：Pagbabago ng tool ng titanium/zirconium/lattice/chrome-aluminum alloy at iba pang mga target.
(2)Paggamit:Ito ay kadalasang ginagamit para sa pagpapaganda ng hitsura.
(3)Mga kinakailangan sa pag-andar：Mataas na mga kinakailangan sa pag-andar, mahabang buhay ng serbisyo.
6、Mga target na materyales para sa mga elektronikong device
(1)Karaniwang ginagamit na materyal:Aluminum alloy/silicid target ay karaniwang ginagamit sa mga elektronikong aparato
(2)Paggamit：Karaniwang ginagamit para sa film resistors at capacitors.
(3)Mga kinakailangan sa pag-andar：Maliit na sukat, katatagan, mababang koepisyent ng temperatura ng paglaban
Oras ng post: Abr-21-2022