Maligayang pagdating sa aming mga website!

CuNiMn Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Copper Nickel Manganese

Maikling Paglalarawan:

Kategorya

Alloy Sputtering Target

Formula ng Kemikal

CuNiMn

Komposisyon

Copper Nickel Manganese

Kadalisayan

99.9%,99.95%,99.99%

Hugis

Mga Plate,Mga Target ng Column,arc cathodes,Custom-made

Proseso ng Produksyon

Pagtunaw ng vacuum

Magagamit na Sukat

L≤2000mm,W≤200mm


Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Ang Copper Nickel Manganese sputtering target ay gawa-gawa sa pamamagitan ng vacuum melting.Nagtatampok ito ng mataas na kadalisayan at electric conductivity at maaaring magamit sa industriya ng panel display.

Ang Copper Nickel Manganese alloy ay karaniwang mayroong Nickel content na 2%~44%, Manganese content 0.1%~28% at Copper balance.Ang Manganese ay nagpapakita ng malaking solidong solubility sa tanso at ito ay isang epektibong solid solution strengthening agent.Maaari itong mapabuti ang mga katangian ng haluang metal.

Ang Rich Special Materials ay dalubhasa sa Paggawa ng Sputtering Target at maaaring gumawa ng Copper Nickel Manganese Sputtering Materials ayon sa mga detalye ng Customer.Para sa karagdagang impormasyon, mangyaring makipag-ugnayan sa amin.


  • Nakaraan:
  • Susunod: