Wholesale CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Manipis na Pelikulang PVD Coating Custom Made Manufacturer at Supplier |Mayaman

Chromium Aluminum

CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made Itinatampok na Larawan

Maikling Paglalarawan:

Kategorya	Alloy Sputtering Target
Formula ng Kemikal	CrAl
Komposisyon	Chromium Aluminum
Kadalisayan	99.7%，99.9%，99.95%，99.99%
Hugis	Mga Plate，Mga Target ng Column，arc cathodes，Custom-made
Proseso ng Produksyon	Pagtunaw ng Vacuum，PM
Magagamit na Sukat	L≤2000mm，W≤200mm

Magpadala ng email sa amin

Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Ang paggawa ng Chromium Aluminum Sputtering Target ay binubuo ng mga sumusunod na hakbang:

1. Paggiling at paghahalo ng pulbos.

2. Mainit na isostatic pressing treatment para makakuha ng mga semi-finished na produkto.

3. Pagmachining ng magaspang na chromium aluminum alloy sputtering target na materyal upang makuha ang chromium aluminum alloy sputtering target na materyal.

Sa panahon ng proseso ng pag-deposition ng CrAl sputtering target, isang matigas na Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN) coating ang nabuo.Ang patong na ito ay nagpapakita ng mataas na tigas at mga katangian ng paglaban sa oksihenasyon kahit na sa mataas na temperatura.Maaaring tumakbo ang mga cutter sa matataas na feed upang mapataas ang produktibidad at mapataas ang kalidad kapag gumagamit ng mga CNC machine.

Ang aming karaniwang mga target ng AlCr at ang kanilang mga katangian

	Cr-70Alsa%	Cr-60Alsa%	Cr-50Alsa%
kadalisayan (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
Densidad（g/cm³）	3.7	4.35	4.55
Gulan Sukat(µm)	100/50	100/50	100/50
Proseso	HIP	HIP	HIP

Dalubhasa ang Rich Special Materials sa Paggawa ng Sputtering Target at maaaring gumawa ng Aluminum Chromium Sputtering Materials ayon sa mga detalye ng Customer.Nagtatampok ang aming mga produkto ng mahuhusay na mekanikal na katangian, homogenous na istraktura, pinakintab na ibabaw na walang segregation, pores o bitak.Para sa karagdagang impormasyon, mangyaring makipag-ugnayan sa amin.

Nakaraan: CoFe Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Susunod: AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Manipis na Film PVD Coating Custom Made