Wholesale NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer at Supplier |Mayaman

Nikel Vanadium

NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Itinatampok na Larawan

Maikling Paglalarawan:

Kategorya	Alloy Sputtering Target
Formula ng Kemikal	NiV
Komposisyon	Nikel Vanadium
Kadalisayan	99.9%，99.95%，99.99%
Hugis	Mga Plate，Mga Target ng Column，arc cathodes，Custom-made
Proseso ng Produksyon	Pagtunaw ng vacuum
Magagamit na Sukat	L≤4000mm,W≤350mm

Magpadala ng email sa amin

Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Nickel Vanadium Sputtering Target na Paglalarawan

Ang ginto ay madalas na inilalapat sa pag-deposition ng integrated circuit layer, ngunit ang AuSi low-melting compound ay kadalasang nabubuo kung ang Gold ay pinagsama sa Silicon, na magiging sanhi ng pagkaluwag sa pagitan ng iba't ibang mga layer.Ang Pure Nickel ay isang mahusay na pagpipilian para sa Adhesive layer, habang ang isang Barrier layer ay kinakailangan din sa pagitan ng Nickel at Gold layer upang maiwasan ang paglaganap.Ang Vanadium ay maaaring ganap na matugunan ang pangangailangang ito na may mataas na punto ng pagkatunaw at kapasidad ng nakatayo na mataas na density ng ampere.Samakatuwid ang Nickel, Vanadium at Gold ay tatlong materyales na karaniwang ginagamit sa integrated circuit industry.Ang Nickel Vanadium Sputtering Target ay ginawa sa pamamagitan ng pagdaragdag ng Vanadium sa tinunaw na Nickel.Sa mababang ferromagnetism, ito ay isang mahusay na pagpipilian para sa magnetron sputtering ng mga elektronikong produkto, na maaaring makagawa ng Nickel layer at Vanadium layer sa isang pagkakataon.

Ni-7V wt% Impurity Content

Kadalisayan	Pangunahing Bahagi(wt%)	Mga Impurity Chemical（≤ppm）							Karumihan Sa kabuuan(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99.99	7±0.5	20	30	20	100	30	100	20	100
99.95	7±0.5	200	200	200	100	100	200	50	500
99.9	7±0.5	300	300	300	100	100	200	50	500

Nickel Vanadium Sputtering Target Packaging

Ang aming target na Nickel Vanadium sputter ay malinaw na naka-tag at may label na panlabas upang matiyak ang mahusay na pagkakakilanlan at kontrol sa kalidad.Malaki ang pag-iingat upang maiwasan ang anumang pinsala na maaaring idulot sa panahon ng pag-iimbak o transportasyon.

Kumuha ng Contact

Ang Nickel Vanadium sputtering target ng RSM ay napakataas ng kadalisayan at uniporme.Available ang mga ito sa iba't ibang anyo, kadalisayan, sukat, at presyo.Dalubhasa kami sa paggawa ng high purity thin film coating na materyales na may mahusay na performance pati na rin ang pinakamataas na posibleng density at pinakamaliit na posibleng average na laki ng butil para gamitin sa mold coating, dekorasyon, mga piyesa ng sasakyan, low-E glass, semi-conductor integrated circuit, thin film. resistance、graphic display、aerospace、magnetic recording、touch screen、thin film solar battery at iba pang physical vapor deposition (PVD) application.Mangyaring magpadala sa amin ng isang pagtatanong para sa kasalukuyang pagpepresyo sa mga sputtering na target at iba pang materyal na deposition na hindi nakalista.

Nakaraan: Target ng WCU Sputtering High Purity Manipis na Pvd Coating ng Pelikulang Custom Made

Susunod: NiCr Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made