Ta Sputtering Target na high purity thin film PVD coating custom made
Tantalum
Titanium Sputtering Target na Paglalarawan
Titanium Sputtering Targetay gawa sa titanium metal.Ang Titanium ay isang Group IV transition metal na nagkaroon ng malaking interes bilang isa sa pinakamahalagang biocompatible na metal, salamat sa isang suite ng angkop na biological at biomechanical na katangian.Ito ay isang makintab na transition metal na may kulay pilak, mababang density, at mataas na lakas.Ang Titanium ay lumalaban sa kaagnasan sa tubig-dagat, aqua regia, at chlorine.cAng malakas, magaan na mga katangian nito at mahusay na paglaban sa kaagnasan ay ginagawa itong perpekto para sa mga ocean liner hull, mga makina ng sasakyang panghimpapawid, at mga alahas ng designer.Ang titanium sputtering target ay ginagamit para sa CD-ROM, dekorasyon, flat panel display, functional coating na kasing ganda ng iba pang optical information storage space industry, glass coating industry tulad ng car glass at architectural glass, optical communication, atbp.
Titanium Sputtering Target Packaging
Ang aming target na Tantalum sputter ay malinaw na naka-tag at may label na panlabas upang matiyak ang mahusay na pagkakakilanlan at kontrol sa kalidad.Malaki ang pag-iingat upang maiwasan ang anumang pinsala na maaaring idulot sa panahon ng pag-iimbak o transportasyon.
Kumuha ng Contact
Ang Tantalum sputtering target ng RSM ay napakataas ng kadalisayan at uniporme.Available ang mga ito sa iba't ibang anyo, kadalisayan, sukat, at presyo.Dalubhasa kami sa paggawa ng high purity thin film coating na materyales na may mahusay na performance pati na rin ang pinakamataas na posibleng density at pinakamaliit na posibleng average na laki ng butil para gamitin sa mold coating, dekorasyon, mga piyesa ng sasakyan, low-E glass, semi-conductor integrated circuit, thin film. resistance、graphic display、aerospace、magnetic recording、touch screen、thin film solar battery at iba pang physical vapor deposition (PVD) application.Mangyaring magpadala sa amin ng isang pagtatanong para sa kasalukuyang pagpepresyo sa mga sputtering na target at iba pang materyal na deposition na hindi nakalista.
