Tungsten Silicide

Ang Tungsten silicide WSi2 ay ginagamit bilang isang electric shock material sa microelectronics, shunting sa polysilicon wires, anti-oxidation coating at resistance wire coating.Ang tungsten silicide ay ginagamit bilang contact material sa microelectronics, na may resistivity na 60-80μΩcm.Ito ay nabuo sa 1000 ° C.Karaniwan itong ginagamit bilang isang paglilipat para sa mga linya ng polysilicon upang mapataas ang kondaktibiti nito at mapataas ang bilis ng signal.Ang tungsten Silicide layer ay maaaring ihanda sa pamamagitan ng chemical vapor deposition, tulad ng vapor deposition.Gumamit ng monosilane o dichlorosilane at tungsten hexafluoride bilang hilaw na materyal na gas.Ang idinepositong pelikula ay hindi stoichiometric at nangangailangan ng pagsusubo upang mabago sa isang mas conductive na stoichiometric na anyo.

Maaaring palitan ng tungsten silicide ang naunang tungsten film.Ang tungsten silicide ay ginagamit din bilang isang barrier layer sa pagitan ng silikon at iba pang mga metal.

Napakahalaga din ng Tungsten silicide sa mga microelectromechanical system, kung saan ang tungsten silicide ay pangunahing ginagamit bilang isang manipis na pelikula para sa paggawa ng mga microcircuits.Para sa layuning ito, ang tungsten silicide film ay maaaring plasma-etched gamit, halimbawa, silicide.

Dalubhasa ang Rich Special Materials sa Paggawa ng Sputtering Target at maaaring gumawa ng Tungsten Silicide Sputtering Materials ayon sa mga detalye ng Customer.Para sa karagdagang impormasyon, mangyaring makipag-ugnayan sa amin.