Wholesale NiFe Sputtering Target High Purity Manipis na Pelikulang Pvd Coating Custom Made Manufacturer at Supplier |Mayaman

Nikel na bakal

NiFe Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Itinatampok na Larawan

Maikling Paglalarawan:

Kategorya	Alloy Sputtering Target
Formula ng Kemikal	NiFe
Komposisyon	Nikel na bakal
Kadalisayan	99.9%, 99.95%, 99.99%
Hugis	Mga Plate，Mga Target ng Column，arc cathodes，Custom-made
Proseso ng Produksyon	Pagtunaw ng Vacuum，PM
Magagamit na Sukat	L≤2000mm，W≤300mm

Magpadala ng email sa amin

Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Video

Nickel Iron Sputtering Target na Paglalarawan

Ang Nickel Iron Sputtering Target ay ginawa sa pamamagitan ng Vacuum Melting, Casting at PM.Ito ay may napakataas na magnetic permeability sa mababang lakas ng field.
Ang nickel Iron target (Nickel>30 wt%) ay nagpapakita ng face-centered cubic structure sa room temperature.Karaniwang may higit sa 36% na komposisyon ng Nickel ang mga target na Nickel Iron, at maaaring hatiin sa apat na kategorya: 35%～40% Ni-Fe、45%～50% Ni-Fe、50%～65% Ni-Fe at 70% ～81% Ni-Fe.Ang bawat isa ay maaaring gawin sa mga materyales na may pabilog, hugis-parihaba o eroplanong magnetic hysteresis loop.
Ang Nickel Iron (Ni-Fe) Sputtering Target ay ginagamit sa malawak na hanay ng mga application, halimbawa magnetic storage media at EMI shielding device.

Nickel Iron Sputtering Target Packaging

Ang aming target na Nickel Iron sputter ay malinaw na naka-tag at may label na panlabas upang matiyak ang mahusay na pagkakakilanlan at kontrol sa kalidad.Malaki ang pag-iingat upang maiwasan ang anumang pinsala na maaaring idulot sa panahon ng pag-iimbak o transportasyon.

Kumuha ng Contact

Ang Nickel Iron sputtering target ng RSM ay napakataas ng kadalisayan at uniporme.Available ang mga ito sa iba't ibang anyo, kadalisayan, sukat, at presyo.Maaari kaming magbigay ng kadalisayan ng 99.99% at ang aming mga tipikal na komposisyon: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.
Dalubhasa kami sa paggawa ng high purity thin film coating na materyales na may mahusay na performance pati na rin ang pinakamataas na posibleng density at pinakamaliit na posibleng average na laki ng butil para gamitin sa mold coating, dekorasyon, mga piyesa ng sasakyan, low-E glass, semi-conductor integrated circuit, thin film. resistance、graphic display、aerospace、magnetic recording、touch screen、thin film solar battery at iba pang physical vapor deposition (PVD) application.Mangyaring magpadala sa amin ng isang pagtatanong para sa kasalukuyang pagpepresyo sa mga sputtering na target at iba pang materyal na deposition na hindi nakalista.